洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，净化室，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，净化室厂家，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在---集成电路生产的光刻---工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，---是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，车间净化室，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。
c.造价较低。特点：这种方案可以是一次回风也可以是二次回风，具体根据车间的大小情况而定;这类方案一般可以适用于洁净度为千级、万级、十万级等的净化无尘厂房。3、光学微电子行业净化工程设计方案分析之分体空调柜机++ffu送风口这是简易的一个空调方案。是直接将分体空调柜机布置于车间内，净化室定制，并用彩钢围护起来，在柜机回风口处再在彩钢板上开回风口(带初效过滤网);klc风机过滤单元ffu均匀布置于吊顶天花。这个方案适用于对室内温湿度精度要求不高的无尘车间。
洁净室净化工程设计是各设计技术的综合，尤其是洁净室净化工程的工艺设计、洁净建筑设计、空气净化设计和各种特殊要求的设计技术的密切协同、相耳渗透和合理安排的综合设计。洁净室净化工程设计应做到顺应工艺(或使用)流程、合理选择各类设备和装置、尽力实现人和物流的顺畅短捷、气流流型选样得当、净化空调系统配置合理、各种特殊要求的技术措施得当，洁净厂房的平面、空间布置合理，实现---经济运行的洁净厂房设施。
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